Optisella suunnittelulla on laaja valikoima sovelluksia puolijohdealalla. Fotolitografiakoneessa optinen järjestelmä on vastuussa valolähteen lähettämän valonsäteen fokusoimisesta ja projisoinnista piikiekkoon piirikuvion paljastamiseksi. Siksi valolitografiajärjestelmän optisten komponenttien suunnittelu ja optimointi on tärkeä tapa parantaa fotolitografiakoneen suorituskykyä. Seuraavassa on joitain valolitografiakoneissa käytetyistä optisista komponenteista:
Projektion tavoite
01 Projisointiobjektiivi on litografiakoneen optinen avainkomponentti, joka koostuu yleensä sarjasta linssejä, mukaan lukien kuperat linssit, koverat linssit ja prismat.
02 Sen tehtävänä on kutistaa maskin piirikuviota ja tarkentaa se fotoresistillä päällystettyyn kiekkoon.
03 Projisointiobjektiivin tarkkuus ja suorituskyky vaikuttavat ratkaisevasti litografiakoneen resoluutioon ja kuvanlaatuun
Peili
01 Peilitkäytetään muuttamaan valon suuntaa ja ohjaamaan se oikeaan paikkaan.
02 EUV-litografiakoneissa peilit ovat erityisen tärkeitä, koska EUV-valo imeytyy helposti materiaaleihin, joten on käytettävä korkean heijastavuuden omaavia peilejä.
03 Myös heijastimen pinnan tarkkuus ja vakaus vaikuttavat suuresti litografiakoneen suorituskykyyn.
Suodattimet
01 Suodattimia käytetään poistamaan ei-toivotut valon aallonpituudet, mikä parantaa fotolitografiaprosessin tarkkuutta ja laatua.
02 Valitsemalla sopiva suodatin voidaan varmistaa, että vain tietyn aallonpituuden omaavaa valoa pääsee litografiakoneeseen, mikä parantaa litografiaprosessin tarkkuutta ja vakautta.
Prismat ja muut komponentit
Lisäksi litografiakone voi käyttää myös muita optisia apukomponentteja, kuten prismoja, polarisaattoreita jne., täyttääkseen erityiset litografiavaatimukset. Näiden optisten komponenttien valinnassa, suunnittelussa ja valmistuksessa on noudatettava tarkasti asiaankuuluvia teknisiä standardeja ja vaatimuksia litografian korkean tarkkuuden ja tehokkuuden varmistamiseksi.
Yhteenvetona voidaan todeta, että optisten komponenttien sovelluksella litografiakoneiden alalla pyritään parantamaan litografiakoneiden suorituskykyä ja tuotantotehokkuutta ja siten tukemaan mikroelektroniikan valmistusteollisuuden kehitystä. Litografiateknologian jatkuvan kehityksen myötä optisten komponenttien optimointi ja innovaatiot lisäävät potentiaalia myös seuraavan sukupolven sirujen valmistukseen.
Lisää näkemyksiä ja asiantuntijaneuvoja saat verkkosivuiltamme osoitteessahttps://www.jiujonoptics.com/saadaksesi lisätietoja tuotteistamme ja ratkaisuistamme.
Postitusaika: 02.01.2025
