Optisella suunnittelulla on laaja valikoima sovelluksia puolijohdealalla. Fotolitografialaitteessa optinen järjestelmä vastaa valonlähteen lähettämän valonsäteen fokusoinnista ja sen heijastamisesta piikiekolle piirikuvion paljastamiseksi. Siksi fotolitografiajärjestelmän optisten komponenttien suunnittelu ja optimointi on tärkeä tapa parantaa fotolitografialaitteen suorituskykyä. Seuraavassa on joitakin fotolitografialaitteissa käytettyjä optisia komponentteja:
Ennustetavoite
01 Projektio-objektiivi on litografiakoneen keskeinen optinen komponentti, joka koostuu yleensä useista linsseistä, mukaan lukien kuperat linssit, koverat linssit ja prismat.
02 Sen tehtävänä on kutistaa maskin piirikuviota ja kohdistaa se fotoresistillä päällystetylle kiekolle.
03 Heijastusobjektiivin tarkkuudella ja suorituskyvyllä on ratkaiseva vaikutus litografialaitteen resoluutioon ja kuvanlaatuun
Peili
01 Peilitkäytetään valon suunnan muuttamiseen ja sen ohjaamiseen oikeaan paikkaan.
02 EUV-litografiakoneissa peilit ovat erityisen tärkeitä, koska materiaalit absorboivat helposti EUV-valoa, joten on käytettävä heijastavia peilejä.
03 Heijastimen pinnan tarkkuudella ja vakaudella on myös suuri vaikutus litografiakoneen suorituskykyyn.
Suodattimet
01 Suodattimia käytetään poistamaan ei-toivottuja valon aallonpituuksia, mikä parantaa fotolitografiaprosessin tarkkuutta ja laatua.
02 Valitsemalla sopivan suodattimen voidaan varmistaa, että litografialaitteeseen pääsee vain tietyn aallonpituuden omaavaa valoa, mikä parantaa litografiaprosessin tarkkuutta ja vakautta.
Prismat ja muut komponentit
Lisäksi litografiakoneessa voidaan käyttää myös muita apuoptisia komponentteja, kuten prismoja, polarisaattoreita jne., täyttääkseen erityiset litografiavaatimukset. Näiden optisten komponenttien valinnan, suunnittelun ja valmistuksen on noudatettava tiukasti asiaankuuluvia teknisiä standardeja ja vaatimuksia litografiakoneen korkean tarkkuuden ja tehokkuuden varmistamiseksi.
Yhteenvetona voidaan todeta, että optisten komponenttien soveltaminen litografiakoneissa pyrkii parantamaan litografiakoneiden suorituskykyä ja tuotantotehokkuutta, mikä tukee mikroelektroniikan valmistusteollisuuden kehitystä. Litografiateknologian jatkuvan kehityksen myötä optisten komponenttien optimointi ja innovointi tarjoavat myös suuremman potentiaalin seuraavan sukupolven sirujen valmistuksessa.
Lisätietoja ja asiantuntijaneuvoja on verkkosivuillamme osoitteessahttps://www.jiujonoptics.com/saadaksesi lisätietoja tuotteistamme ja ratkaisuistamme.
Julkaisun aika: 02.01.2025
